在洁净室清洗洁净工作服过程中应注意的事项如下：
1.新缝制的洁净工作服可直接进行洗涤，而回收穿过的洁净工作服发现油污，应仔细去除油污再进行洗涤程序。
2.洗涤前要对擦破、损坏及搭扣等附属品进行检查，对有缺陷的要修理、更换或报废。
3.必须在比使用工作服的洁净室的洁净度高的洁净室中进行清洗、烘干、捆包。
4.湿式、干式清洗用的水要过滤，溶剂也要蒸馏之后在使用点上用小于0.2μm孔径的滤膜，根据需要进行一次以上的过滤。
5.为了除去水溶性污染物，用清水洗涤后，再用蒸馏过的溶剂进行后的洗涤，除去油性污染物。
6.湿式洗涤用水温度如下：聚酯布 60-70C 蕞高70C. 尼龙布 50-55C 蕞高60C.
7.在后漂洗透水时，可以用抗静电剂以提高抗静电特性，但选用的抗静电剂应与纤维结合良好，无粉尘脱落。
8.有搭扣的工作服，应在扣合状态下洗涤。净化车间
9.在洗涤的洁净空气循环系统中进行干燥。
洁净室中的温湿度控制：
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。
保证洁净室内要求的空气温度和相对湿度
在洁净室内，如果空气温度过低，不便于工作的正常进行；如果温度过高，则会使室内工作人员产生过多的汗液，汗液挥发成微小粒子进入空气中，从而增加了洁净室内空气中含尘粒数，进而使其洁净度级别的所下降，无法保证工艺条件的要求。
洁净室内相对湿度的过低，由于室内空气的过分干燥而使室内设备、用具、以及洁净室的结构表面的覆盖层更容易脱落，变成粒子状进入洁净室的空气中，增加空气的含尘量。如果洁净室的相对湿度过高，则会使室内空气中的一些微细粒子在运动中发生碰撞而粘着，凝聚成稍大一些的尘埃粒子，从而使室内计数尘埃粒子数增加而破坏原有的洁净度级别。室内相对湿度的过高，一些零件会生锈并产生一系列问题。
以上信息由专业从事无尘室净化工程施工的晴朗净化于2025/3/19 15:00:41发布
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